產品中心
Product Center
熱門搜索：
美國EDAX能譜儀
EP6美國 Cascade Microtech EP6探針臺
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學輪廓儀
主動隔振臺ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺式納米壓痕儀
P170全自動晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯用系統
納米團簇束流沉積系統
P7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
Lumina光學表面缺陷分析儀
Profilm 3D經濟三維光學輪廓儀 可測樣
Solver P47俄羅斯產高性價比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
產品簡介
高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工藝，可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標準模板分為三類：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。適用于Obducat，Suss，HP，EVG等多種型號的納米壓印設備。
product
產品分類article
相關文章高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）技術參數：
Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.
提供各種材料的納米壓印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板zui大尺寸：4英寸，特征尺寸為100nm。對于更小的尺寸，zui小的特征尺寸可以達到50nm。
DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.
提供zui低30nm特征尺寸的各種結構的電子束刻蝕服務。基板：任何導電或者非導電晶片。
MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.
各種納米結構（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微納米加工。
高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特點：
softmoldforthermalnanoimprint熱壓印的軟模板
quartzmoldforUVnanoimprint紫外壓印的石英模板
siliconmoldforthermalnanoimprint熱壓印的硅模板
當前位置：
上一個：
返回列表
